电子与封装2023，Vol.23Issue(4)：65-68,4.DOI:10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0025
光刻机镜头漏光对光刻工艺的影响
Impact of Lithography Lens Leakage on Lithography Process
梁宗文 1石浩 1王雯洁 1王溯源 1章军云1
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摘要
关键词
365 nm步进式光刻机/漏光/掩模版/GaAs单片微波集成电路分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
梁宗文,石浩,王雯洁,王溯源,章军云..光刻机镜头漏光对光刻工艺的影响[J].电子与封装,2023,23(4):65-68,4.
