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空位缺陷和原子掺杂对氮化镓热导率影响的分子动力学模拟

高志乐 王继芬

电子元件与材料2023,Vol.42Issue(7):839-848,10.
电子元件与材料2023,Vol.42Issue(7):839-848,10.DOI:10.14106/j.cnki.1001-2028.2023.0101

空位缺陷和原子掺杂对氮化镓热导率影响的分子动力学模拟

Molecular dynamics simulation of the effect of vacancy defects and atom doping on the thermal conductivity of GaN

高志乐 1王继芬2

作者信息

  • 1. 上海海事大学 商船学院,上海 201306
  • 2. 上海第二工业大学 资源与环境工程学院,上海 201209
  • 折叠

摘要

关键词

非平衡分子动力学/氮化镓/空位缺陷/原子掺杂/热导率

Key words

non-equilibrium molecular dynamics/GaN/vacancy defects/atomic doping/thermal conductivity

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

高志乐,王继芬..空位缺陷和原子掺杂对氮化镓热导率影响的分子动力学模拟[J].电子元件与材料,2023,42(7):839-848,10.

基金项目

国家自然科学基金(51776116) (51776116)

上海市科技计划(22010500600) (22010500600)

电子元件与材料

OA北大核心CSTPCD

1001-2028

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