电子元件与材料2023，Vol.42Issue(7)：888-892,898,6.DOI:10.14106/j.cnki.1001-2028.2023.1689
咪唑对钴互连化学机械抛光的影响
Effect of imidazole on chemical mechanical polishing of cobalt interconnection
摘要
关键词
钴/化学机械抛光/咪唑/去除速率/静态腐蚀速率/表面粗糙度Key words
cobalt/chemical mechanical polishing/imidazole/removal rate/static etch rate/surface roughness分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
郭峰,王胜利,王辰伟,张月..咪唑对钴互连化学机械抛光的影响[J].电子元件与材料,2023,42(7):888-892,898,6.基金项目
河北省自然科学基金(E2019202367) （E2019202367）
