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深亚微米SOI工艺高压ESD器件防护设计

朱琪 黄登华 陈彦杰 刘芸含 常红

电子与封装2023,Vol.23Issue(9):45-49,5.
电子与封装2023,Vol.23Issue(9):45-49,5.DOI:10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0118

深亚微米SOI工艺高压ESD器件防护设计

Deep Submicron SOI Process High Voltage ESD Device Protection Design

朱琪 1黄登华 1陈彦杰 1刘芸含 1常红1

作者信息

  • 1. 中国电子科技集团公司第五十八研究所,江苏无锡214035
  • 折叠

摘要

关键词

高压ESD器件/绝缘体上硅工艺/开放式基极堆叠三极管

Key words

high voltage ESD devices/silicon on insulator process/open base stacked triode

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

朱琪,黄登华,陈彦杰,刘芸含,常红..深亚微米SOI工艺高压ESD器件防护设计[J].电子与封装,2023,23(9):45-49,5.

基金项目

江苏省博士后科研资助计划(2019K117) (2019K117)

江苏省青年基金(BK20200167) (BK20200167)

电子与封装

1681-1070

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