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酸性层间介质CMP抛光液胶体稳定性的研究

陈志博 王辰伟 王雪洁 王海英 盛媛慧

电子元件与材料2023，Vol.42Issue(12)：P.1476-1482,7.
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电子元件与材料2023，Vol.42Issue(12)：P.1476-1482,7.DOI:10.14106/j.cnki.1001-2028.2023.0401

酸性层间介质CMP抛光液胶体稳定性的研究

陈志博 1王辰伟 1王雪洁 1王海英 1盛媛慧2

作者信息

  • 1. 河北工业大学电子信息工程学院,天津300130 天津市电子材料与器件重点实验室,天津300130
  • 2. 北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司,北京102600
  • 折叠

摘要

关键词

层间介质/化学机械抛光/分散剂/去除速率

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

陈志博,王辰伟,王雪洁,王海英,盛媛慧..酸性层间介质CMP抛光液胶体稳定性的研究[J].电子元件与材料,2023,42(12):P.1476-1482,7.

基金项目

国家自然科学基金(62074049)。 （62074049）

电子元件与材料

OA北大核心CSTPCD

1001-2028

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