|国家科技期刊平台
| 注册
首页|期刊导航|电子元件与材料|新型阻挡层抛光液对CMP后清洗效果的影响

新型阻挡层抛光液对CMP后清洗效果的影响

栾晓东 张拓 戚克松 樊硕晨 贾儒

电子元件与材料2023，Vol.42Issue(12)：P.1483-1489,7.
✕
电子元件与材料2023，Vol.42Issue(12)：P.1483-1489,7.DOI:10.14106/j.cnki.1001-2028.2023.0342

新型阻挡层抛光液对CMP后清洗效果的影响

栾晓东 1张拓 2戚克松 3樊硕晨 2贾儒2

作者信息

  • 1. 江苏海洋大学电子工程学院,江苏连云港222005 江苏省海洋资源开发研究院,江苏连云港222005 河北工业大学电子信息工程学院,天津300130
  • 2. 江苏海洋大学电子工程学院,江苏连云港222005
  • 3. 陆军军事交通学院,天津300130
  • 折叠

摘要

关键词

阻挡层/化学机械抛光/清洗/缺陷/电偶腐蚀

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

栾晓东,张拓,戚克松,樊硕晨,贾儒..新型阻挡层抛光液对CMP后清洗效果的影响[J].电子元件与材料,2023,42(12):P.1483-1489,7.

基金项目

国家自然科学基金青年基金(62104087) （62104087）

江苏省自然科学青年基金(BK20191005) （BK20191005）

江苏高校“青蓝工程”资助。 （）

电子元件与材料

OA北大核心CSTPCD

1001-2028

访问量0
|
下载量0
段落导航相关论文