电子元件与材料2024，Vol.43Issue(4)：P.454-460,467,8.DOI:10.14106/j.cnki.1001-2028.2024.1629
Mist CVD生长的雾滴迁移与早期沉积研究
摘要
关键词
α-Ga_(2)O_(3)/Mist CVD/雾滴/蒸发时间/平均生长速率/均匀性分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
吴诗颖,陈琳,蒋少清,郭方正,陶志阔..Mist CVD生长的雾滴迁移与早期沉积研究[J].电子元件与材料,2024,43(4):P.454-460,467,8.基金项目
江苏省光电信息功能材料重点实验室开放课题(TK222018) （TK222018）
国家自然科学基金(61574079)。 （61574079）
