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具有沟槽氧化物和P-屏蔽层的4H-SiC MPS的设计与仿真

蔡艺 汪再兴 姜佳池 王林昌 党超

电子元件与材料2024,Vol.43Issue(9):P.1063-1070,8.
电子元件与材料2024,Vol.43Issue(9):P.1063-1070,8.DOI:10.14106/j.cnki.1001-2028.2024.0035

具有沟槽氧化物和P-屏蔽层的4H-SiC MPS的设计与仿真

蔡艺 1汪再兴 1姜佳池 1王林昌 1党超1

作者信息

  • 1. 兰州交通大学电子与信息工程学院,甘肃兰州730070 甘肃省集成电路产业研究院,甘肃兰州730070 甘肃省微电子产业研究院,甘肃兰州730070
  • 折叠

摘要

关键词

4H-SiC/MPS二极管/迅回效应/转折电压/反向恢复特性

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

蔡艺,汪再兴,姜佳池,王林昌,党超..具有沟槽氧化物和P-屏蔽层的4H-SiC MPS的设计与仿真[J].电子元件与材料,2024,43(9):P.1063-1070,8.

基金项目

甘肃省科技厅计划项目(23CXGA0050) (23CXGA0050)

甘肃省科技厅计划项目(23JRRA844) (23JRRA844)

甘肃省科技厅计划项目(23ZDGE001) (23ZDGE001)

甘肃省高校科研创新平台重大培育项目(2024CXPT-17)。 (2024CXPT-17)

电子元件与材料

OA北大核心CSTPCD

1001-2028

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