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低真空下壁垒型阳极氧化铝膜生长过程中电子电流的产生

丰骏 钱鹏 李鹏泽 余行康 刘霖

电子元件与材料2025，Vol.44Issue(5)：P.579-584,6.
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电子元件与材料2025，Vol.44Issue(5)：P.579-584,6.DOI:10.14106/j.cnki.1001-2028.2025.0288

低真空下壁垒型阳极氧化铝膜生长过程中电子电流的产生

丰骏 1钱鹏 2李鹏泽 3余行康 4刘霖4

作者信息

  • 1. 南京理工大学化学与化工学院,江苏南京210094 南通江海电容器股份有限公司,江苏南通226361
  • 2. 南通江海电容器股份有限公司,江苏南通226361
  • 3. 南京理工大学化学与化工学院,江苏南京210094
  • 4. 江苏海洋大学环境与化学工程学院,江苏连云港222005
  • 折叠

摘要

关键词

壁垒型阳极氧化铝/多孔型阳极氧化铝/阳极氧化/闪火电压

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

丰骏,钱鹏,李鹏泽,余行康,刘霖..低真空下壁垒型阳极氧化铝膜生长过程中电子电流的产生[J].电子元件与材料,2025,44(5):P.579-584,6.

基金项目

国家自然科学基金(61171043,51577093)。 （61171043,51577093）

电子元件与材料

OA北大核心

1001-2028

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