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具有N/P埋层结构的SiC RESURF LDMOS器件特性研究

王冰琪 汪再兴 蔡艺 刘泊麟 李慧娟

电子元件与材料2025,Vol.44Issue(11):P.1323-1330,8.
电子元件与材料2025,Vol.44Issue(11):P.1323-1330,8.DOI:10.14106/j.cnki.1001-2028.2025.0161

具有N/P埋层结构的SiC RESURF LDMOS器件特性研究

王冰琪 1汪再兴 1蔡艺 1刘泊麟 1李慧娟1

作者信息

  • 1. 兰州交通大学电子与信息工程学院,甘肃兰州730070 甘肃省集成电路产业研究院,甘肃兰州730070 甘肃省微电子产业研究院,甘肃兰州730070
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摘要

关键词

SiC LDMOS/击穿电压/降低表面电场/横向电场分布/转移特性

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

王冰琪,汪再兴,蔡艺,刘泊麟,李慧娟..具有N/P埋层结构的SiC RESURF LDMOS器件特性研究[J].电子元件与材料,2025,44(11):P.1323-1330,8.

基金项目

甘肃省科技厅计划项目(23ZDGE001) (23ZDGE001)

甘肃省高校科研创新平台重大培育项目(2024CXPT-17) (2024CXPT-17)

集成电路封装与测试重点实验室项目(2023-3-19)。 (2023-3-19)

电子元件与材料

OA北大核心

1001-2028

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