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重复二次曝光工艺在相移掩模制造中的应用研究

曹凯

电子与封装2026，Vol.26Issue(2)：P.66-70,5.
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电子与封装2026，Vol.26Issue(2)：P.66-70,5.DOI:10.16257/j.cnki.1681-1070.2026.0021

重复二次曝光工艺在相移掩模制造中的应用研究

曹凯1

作者信息

  • 1. 无锡中微掩模电子有限公司,江苏无锡214135
  • 折叠

摘要

关键词

相移掩模/二次曝光/铬残留/相位角

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

曹凯..重复二次曝光工艺在相移掩模制造中的应用研究[J].电子与封装,2026,26(2):P.66-70,5.

电子与封装

1681-1070

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