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磁控溅射法制备AZO薄膜的工艺研究北大核心CSCD
作者：张丽伟卢景霄段启亮王海燕李瑞靳锐敏王红娟张宇翔
发表期刊：电子元件与材料 2005年8期
关键词：无机非金属材料AZO薄膜磁控溅射法制备气氛退火温度
摘要：用XRD测试仪、分光光度计、四探针等测试仪器,探讨了制备气氛、退火温度和退火环境对AZO薄膜光电性能及结构的影响.结果表明:氧气和氩气的体积流量比为2∶1时,薄膜透光率最高(95.33%);退火有利于薄膜结晶;低于400℃退火时,温度越高薄膜电阻越小,超过400℃后,真空中退火温度再升高电阻变化不大,而空气中退火温度再升高电阻反而变大.
基于C8051F350的铂电阻温度测量系统
作者：张宇翔
发表期刊：气象水文海洋仪器 2010年4期
关键词：铂电阻温度传感器C8051F350单片机温度测量系统
摘要：本文介绍一种基于C8051F350片上系统构建的铂电阻温度测量系统.该系统有效克服了导线电阻、自热效应、元件参数漂移对测量精度的影响,是一种结构简单、成本低廉的高精度温度测量系统,可广泛应用于气象、水文、海洋和环保等领域.
基于FLAC和遗传算法的斜坡加固方案优化方法北大核心CSCDCSTPCD
作者：谌文武张宇翔和法国李鹏飞柳敏韩文峰
发表期刊：中南大学学报（自然科学版） 2011年11期
关键词：斜坡加固优化设计性价比遗传算法FLAC
摘要：提出一种以性价比为评价指标,运用快速拉格朗日差分分析和遗传算法对斜坡加固方案进行优化的新方法.应用FLAC计算斜坡加固前后的稳定性系数(Ks),以性价比(加固前后稳定性系数的差和工程造价的比)为目标函数,以加固后的稳定性系数大于等于安全系数为约束条件,应用遗传算法在加固方案的解空间中搜索目标函数的最大值,与其对应的各加固设计参数为加固方案的全局最优解.利用Visual C++语言,定义一个基于二值数编码的遗传算法类,编制斜坡加固方案优…查看全部>>
单片机的在系统编程及TPS3838在其中的应用
作者：梁万用张宇翔郭敏杨文科
发表期刊：现代电子技术 2004年24期
关键词：ISP在系统编程TPS3838MSC1210电压监控芯片
摘要：介绍了单片机在系统编程原理,讨论了几种8051核心单片机的在系统编程的引导方式.然后对电压监控系统芯片TPS3838的特性做了简单介绍.并就利用TPS3838不同接法,输出复位信号将有不同延时的特性实现的在系统编程电路做了具体介绍.
不同衬底制备硅薄膜的微结构研究北大核心CSCDCSTPCD
作者：李红菊张丽伟杨根赵剑涛张宇翔
发表期刊：人工晶体学报 2006年6期
关键词：拉曼SEM硅薄膜微结构衬底
摘要：本文用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术,在普通玻璃衬底、未织构的氧化锌掺铝(AZO)覆盖的普通玻璃衬底和石英衬底上室温下制备了微晶硅薄膜.然后用快速光热退火炉(RTP)在600℃下对样品进行了7min的退火处理, 借助Raman和SEM对退火前后硅薄膜微结构进行了研究,并用声子限域理论和纳晶表面效应对实验现象进行了分析.结果表明:(1) 薄膜沉积过程中,衬底结构对薄膜微结构有重要影响,相对来说石英衬底上沉积的硅薄膜最容…查看全部>>
薄膜结构性能变化中的"温度临界点"北大核心CSCD
作者：张丽伟卢景霄李瑞冯团辉靳锐敏张宇翔李维强王红娟
发表期刊：人工晶体学报 2005年5期
关键词：温度临界点薄膜结构X射线衍射拉曼光谱
摘要：本文先从理论角度说明了薄膜结构性能变化中存在"温度临界点",然后借助于XRD、Raman等测试仪器研究分析了Si薄膜、AZO薄膜在晶化过程、晶粒长大过程以及性能突变中的"温度临界点".结果显示:薄膜结构性能变化中确实存在"温度临界点";在"温度临界点"前后薄膜结构性能的变化规律曲线出现拐点.进而推论:薄膜的结构性能在随温度变化中"温度临界点"可能不止一个.
某部驻训卫勤保障工作模式转变的做法
作者：王凤民张宇翔
发表期刊：解放军医药杂志 2010年z1期
关键词：军队卫生军事人员卫勤保障
摘要：我部野外驻训时间跨度长,训练任务重,兵种专业多,兵力使用分散,且自然条件差,生活设施较为简陋,各驻训点远离体系医院,最近的也距离100 km以上.随队保障卫生人员数量少,技术、装备较为薄弱,难以形成保障合力,根据上级首长和卫勤机关建议,2009年我们按照师机关整体筹划,协调组织、整合全师卫勤力量和卫生资源,变分散为集中,分区域实施集医疗、巡诊、防疫为一体规模保障的做法,取得了很好的效果,现报告如下.
快速光热退火法制备多晶硅薄膜的研究北大核心CSCD
作者：冯团辉卢景霄张宇翔杨仕娥李瑞靳锐敏王海燕郜小勇
发表期刊：电子元件与材料 2005年2期
关键词：半导体材料快速光热退火非晶硅薄膜多晶硅薄膜晶粒尺寸暗电导率
摘要：为了制备应用于太阳电池的优质多晶硅薄膜,研究了非晶硅薄膜的快速光热退火技术.先利用PECVD设备沉积非晶硅薄膜,然后放入快速光热退火炉中进行退火.退火前后的薄膜利用X射线衍射仪(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)测试其晶体结构及表面形貌,用电导率设备测试其暗电导率.研究表明退火温度、退火时间对非晶硅薄膜的晶化都有很大的影响,光热退火前先用常规高温炉预热有助于增大多晶硅薄膜的晶粒尺寸和暗电导率.
公路工程测量内外业良好结合的相关分析CHSSCD
作者：张宇翔
发表期刊：产业与科技论坛 2012年1期
关键词：工程测量测量外业测量内业地下测量恶劣天气
摘要：如果能把公路工程测量内外业良好的结合起来的话,那么在整个的公路工程建设过程中,能有效地提高人力物力的利用率,进而缩短了公路工程建设的整体所需的时间,公路工程测量内外业良好的结合会在提高了各个部门之间的协作能力的同时,也降低了公路工程所需的成本。
陕西地震监测台网在汶川地震监测中的应用CSTPCD
作者：张宇翔罗词建
发表期刊：地震地磁观测与研究 2010年5期
关键词：汶川8.0级地震地震监测成果应用探讨
摘要：介绍陕西地震监测台网及运行情况,总结分析该台网在四川汶川8.0级地震速报、震型判定、余震预测和地震烈度划分、抗震救灾等方面的作用,探讨了地震监测台网建设及防震减灾相关问题.

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