本文从熔体组分挥发产生杂质这一观点出发,研究了二元化合物AmBn熔体中的杂质产生率以及过剩组分杂质在熔体和晶体中的浓度,并导出了浓度分布的数学表达式,分析了组分挥发对熔体提拉法晶体生长的影响,并对其结果进行了讨论。
作者:路治平
作者单位:不详;不详
分类:数理科学
中文关键词:晶体生长组分挥发杂质熔体提拉法
刊名:《人工晶体学报》 1995 (1)
页码/页数:59,1
基金:国家自然科学基金委基金
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