高功率脉冲磁控溅射制备的TiN薄膜 应力释放及其结合稳定性研究OA北大核心CSCDCSTPCD
Stress Release and Adhesion Stability of TiN Films Deposited by High Power Pulsed Magnetron Sputtering
目的 探究高功率脉冲磁控溅射(HPPMS)制备的氮化钛(TiN)薄膜在自然时效过程中,应力、薄膜/基体结合性能随时间的变化规律.方法 采用高功率脉冲磁控溅射(HPPMS)技术,通过调控基体偏压(–50、–150 V),制备出具有不同残余压应力(3.18、7.46 GPa)的TiN薄膜,并采用基片曲率法、X射线衍射法、划痕法和超显微硬度计评价了薄膜的应力、薄膜/基体结合性能、硬度随时间的变化规律.结果 在沉积完成后1 h内,–50 V和–150 V…查看全部>>
唐鑫;马东林;陈畅子;冷永祥;黄楠
西南交通大学 材料科学与工程学院,成都 610031西南交通大学 材料科学与工程学院,成都 610031荆楚理工学院,湖北 荆门 448000西南交通大学 材料科学与工程学院,成都 610031西南交通大学 材料科学与工程学院,成都 610031
矿业与冶金
高功率磁控溅射氮化钛薄膜薄膜应力膜基结合力自然时效
《表面技术》 2019 (9)
具有体内磨损自修复功能的碳基薄膜及其在人工器官摩擦配副表面改性中的应用
245-251,7
国家自然科学基金(31570958,U1330113)
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