首页|期刊导航|表面技术|ChCl-OxA低共熔溶剂中铜的电沉积行为研究

ChCl-OxA低共熔溶剂中铜的电沉积行为研究OA北大核心CSCDCSTPCD

Electrochemical Behavior of Copper Electroplating Progress in ChCl-OxA Eutectic Solvent

中文摘要

目的 研究铜在氯化胆碱-草酸(ChCl-OxA)低共熔溶剂中的电化学行为、电结晶机理及电沉积历程.方法 采用循环伏安法(CV)和计时电流法(CA)研究了铜在ChCl-OxA低共熔溶剂中的电化学行为和不同电位阶跃下的电结晶机理.采用扫描电子显微镜(SEM)和X-射线衍射技术(XRD)对铜镀层的微观形貌和物相组成进行了表征.结果 ChCl-OxA低共熔溶剂的电化学稳定窗口为2.10 V.铜离子经过两个连续的电化学步骤还原为金属铜,两个还原峰电位(vs…查看全部>>

孙海静;杨帅;丁明玉;孙杰

沈阳理工大学 环境与化学工程学院,沈阳 110159沈阳理工大学 环境与化学工程学院,沈阳 110159沈阳理工大学 环境与化学工程学院,沈阳 110159沈阳理工大学 环境与化学工程学院,沈阳 110159

化学化工

低共熔溶剂草酸电沉积电化学行为形核机制

《表面技术》 2021 (11)

313-320,8

辽宁省教育厅青年科技人才"育苗"项目(LG201928)

10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2021.11.033

评论

您当前未登录!去登录点击加载更多...