ChCl-OxA低共熔溶剂中铜的电沉积行为研究OA北大核心CSCDCSTPCD
Electrochemical Behavior of Copper Electroplating Progress in ChCl-OxA Eutectic Solvent
目的 研究铜在氯化胆碱-草酸(ChCl-OxA)低共熔溶剂中的电化学行为、电结晶机理及电沉积历程.方法 采用循环伏安法(CV)和计时电流法(CA)研究了铜在ChCl-OxA低共熔溶剂中的电化学行为和不同电位阶跃下的电结晶机理.采用扫描电子显微镜(SEM)和X-射线衍射技术(XRD)对铜镀层的微观形貌和物相组成进行了表征.结果 ChCl-OxA低共熔溶剂的电化学稳定窗口为2.10 V.铜离子经过两个连续的电化学步骤还原为金属铜,两个还原峰电位(vs…查看全部>>
孙海静;杨帅;丁明玉;孙杰
沈阳理工大学 环境与化学工程学院,沈阳 110159沈阳理工大学 环境与化学工程学院,沈阳 110159沈阳理工大学 环境与化学工程学院,沈阳 110159沈阳理工大学 环境与化学工程学院,沈阳 110159
化学化工
低共熔溶剂草酸铜电沉积电化学行为形核机制
《表面技术》 2021 (11)
313-320,8
辽宁省教育厅青年科技人才"育苗"项目(LG201928)
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