镍基阵列微针的薄胶微电铸制备工艺OA北大核心CSTPCD
Preparation of Ni microneedle array using thin photoresist microelectroforming technique
阵列镍微针具有机械强度高、导电性好等优点,广泛应用于生物工程等领域.微电铸工艺凭借其复制精度高、适应性广等优点,已成为制备镍微针的可靠方法.然而,在微电铸工艺中,通常需要使用与铸层厚度相同的光刻胶模具,导致厚胶微电铸时面临微结构处存留残胶、胶层难以去除等问题.为了解决上述问题,获得尖端曲率半径为纳米尺度的阵列镍微针,我们提出了镍基阵列微针的薄胶微电铸制备工艺并进行实验验证.首先,利用(100)型单晶硅的各向异性刻蚀特性制备阵列锥坑硅模具;接着,在…查看全部>>
With the advantages of high mechanical strength and good electrical conductivity,Ni micronee-dle arrays are widely used in bioengineering and other fields.By virtue of the advantages of high replication accuracy and wide adaptability,the microelectroforming technique has become a reliable method for prepar-ing Ni microneedles.However,it is usually necessary to use photoresist template with the same thickness as that of the casting layer in the microelectrofo…查看全部>>
王华安;李晓建;尹鹏和;宋佳忻;张宇;梁军生
大连理工大学 辽宁省微纳米技术及系统重点实验室,辽宁 大连 116024大连理工大学 辽宁省微纳米技术及系统重点实验室,辽宁 大连 116024大连理工大学 辽宁省微纳米技术及系统重点实验室,辽宁 大连 116024大连理工大学 辽宁省微纳米技术及系统重点实验室,辽宁 大连 116024大连理工大学 辽宁省微纳米技术及系统重点实验室,辽宁 大连 116024大连理工大学 辽宁省微纳米技术及系统重点实验室,辽宁 大连 116024||大连理工大学 高性能精密制造全国重点实验室,辽宁 大连 116024
电子信息工程
阵列镍微针硅模具微电铸工艺侧蚀量补偿
Ni microneedle arraysilicon templatemicroelectroforming techniquelateral erosion com-pensation
《光学精密工程》 2024 (16)
2492-2503,12
国家自然科学基金(No.51675085)中央高校基本科研业务费项目(No.DUT22YG214)
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