- 年份
- 2010(2)
- 2008(1)
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- 中频反应磁控溅射(3)
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- 作者
- 于栋利(2)
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- 中频磁控溅射周期性变电流(Ti,Al)N多层薄膜的结构与性能CSTPCD
- 周期结构对AlTiN多层薄膜结合能影响北大核心CSCDCSTPCD
- 溅射制备的Al2O3薄膜的光学性质北大核心CSCDCSTPCD摘要:采用中频反应磁控溅射技术,在石英基片上制备了氧化铝薄膜.研究了氧化铝薄膜的XRD谱和Al 2p核心能级的XPS谱随不同制备氧分压比的演变规律.结果表明:随着制备氧分压比的增加,薄膜中的铝元素从金属态逐渐升高到正3价,同时薄膜由晶态逐渐转变成非晶态.当氧分压比为11%时,可以得到符合化学计量比的、非晶态的、表面非常光滑的氧化铝薄膜,该薄膜具有较高的折射率和较低的消光系数.AFM表面相貌图片显示:随氧分压比增加薄膜表面形貌呈现逐渐光滑的趋…查看全部>>