光刻胶用底部抗反射涂层研究进展OA北大核心CSCDCSTPCD
Research Progress of the Bottom Anti-reflective Coating for Photoresist
随着微电子工业的蓬勃发展,光刻技术向着更高分辨率的方向迈进,运用底部抗反射涂层有效消除光刻技术中的驻波效应、凹缺效应,提高关键尺寸均一性和图案分辨率,引起了广大研究者的关注.本文简要介绍了光刻胶和光刻技术,底部抗反射涂层的分类、基本原理、刻蚀工艺以及其发展状况.重点对底部抗反射涂层的最新研究进展进行了总结,尤其是碱溶型底部抗反射涂层在光刻胶中的应用研究,最后对底部抗反射涂层的发展前景和方向进行了展望.
王宽;刘敬成;刘仁;穆启道;郑祥飞;纪昌炜;刘晓亚
江南大学化学与材料工程学院,江苏无锡214122江南大学化学与材料工程学院,江苏无锡214122江南大学化学与材料工程学院,江苏无锡214122苏州瑞红电子化学品有限公司,江苏苏州215124苏州瑞红电子化学品有限公司,江苏苏州215124苏州瑞红电子化学品有限公司,江苏苏州215124江南大学化学与材料工程学院,江苏无锡214122
光刻胶光刻技术底部抗反射涂层
photoresistlithographybottom anti-reflective coating
《影像科学与光化学》 2016 (2)
123-135,13
国家重大科技专项(2010ZX02304)、江苏省产学研前瞻性联合研究项目(BY2015019-14)和中央高校基本科研业务费专项资金(JUSRP11514)资助
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