沉积方式对HfO2薄膜激光损伤阈值的影响OA北大核心CSCDCSTPCD
Influence of the deposition method on the laser induced damage threshold of HfO2 thin films
分别采用电子束蒸镀、离子束辅助沉积、离子束反应辅助沉积、双离子束溅射技术制备了二氧化铪薄膜,研究了薄膜的光学特性、缺陷、残余应力、弱吸收和抗激光损伤阈值.发现离子束反应辅助沉积的二氧化铪薄膜具有低的缺陷密度和高的损伤阈值;双离子束溅射的二氧化铪薄膜具有高的折射率、高的残余应力和低的损伤阈值.对二氧化铪薄膜的损伤阈值与上述特性之间的依赖关系进行了讨论,发现残余应力是影响薄膜抗激光损伤阈值的一个重要原因.
袁宏韬;张贵彦;阚珊珊
中国科学院,长春光学精密机械与物理研究所,吉林,长春,130033中国科学院,研究生院,北京,100039中国科学院,长春光学精密机械与物理研究所,吉林,长春,130033
信息技术与安全科学
二氧化铪薄膜激光损伤阈值物理汽相沉积
《华中科技大学学报（自然科学版）》 2007 (z1)
108-111,4
国家高技术研究发展计划资助项目 (2001AA312100)中国科学院光电集团资助项目 (KGCX2-405).
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