微波法大功率稳定快速沉积CVD金刚石膜OACSTPCD
Steady and rapid deposite CVD diamond films under high-power using microwave
为了提高微波等离子体化学气相沉积CVD金刚石膜的速率,通过对微波源的磁控管、装置的冷却系统及真空密封技术三方面的改进,当微波频率为2.45 GHz、输出有效功率为6.0 kW以上时,装置能够长期稳定地运行;并在微波输入功率4.5 kW、CH4质量分数1.2%、气体流量150 SCCM、沉积气压9.5 kPa、基片温度(900±10)°C、沉积时间240 h的沉积工艺条件下(衬底上加上-150 V偏压),成功地在硅片上快速沉积出了厚度为500 μm…查看全部>>
黄建良;汪建华
武汉工程大学等离子体化学与新材料省重点实验室,湖北,武汉,430074武汉工程大学等离子体化学与新材料省重点实验室,湖北,武汉,430074
通用工业技术
金刚石膜微波化学气相沉积装置磁控管
《武汉工程大学学报》 2007 (4)
63-66,4
国家863计划资助项目(715-002-0020)
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