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- CCD及CMOS图像传感器的质子位移损伤等效分析CSTPCDAbstract:对位移损伤敏感器件CCD及CMOS图像传感器进行了3,10,23 MeV质子辐照试验,获得了电荷转移效率及暗电流退化程度分别随非电离能量损失(NIEL)变化的线性关系,验证了基于NIEL的位移损伤等效方法的可行性.为准确预测抗辐射加固工程中,器件屏蔽结构带来的能量崎离、次级粒子等非理想因素对器件参数退化的影响,利用Geant4计算了不同质子能量下的NIEL值.结果 表明,随着质子能量降低,计算得到的NIEL值与解析法给出的理想N…More>>
- 辐射导致CMOS图像传感器暗电流随机电报信号北大核心CSCDAbstract:针对空间和核工业应用中辐射引起CMOS图像传感器产生暗电流随机电报信号(DC-RTS)问题,对0.18 μm CMOS图像传感器进行不同能量质子、γ射线的辐照试验,辐照后对DC-RTS特征参数进行分析.试验结果表明:由于位移损伤和电离总剂量效应产生的RTS缺陷不同,两种DC-RTS在台阶、最大跳变幅度、平均时间等参数存在差异.相比于位移损伤产生的DC-RTS,电离总剂量产生的DC-RTS具有跳变幅度小、平均时间长的波动特点,导致此类D…More>>
- P型栅增强型GaN功率开关器件的中子辐照效应CSTPCD
- 航天器空间辐射效应分析技术现状与思考北大核心CSTPCD
- 光电耦合器件在低地球轨道航天器中的运用评估CSTPCD
- 多尺度模拟方法在材料位移损伤效应研究中的应用CSTPCD
- 空间辐射环境危害综合监测原理样机研制CSTPCD
- 高能质子辐照导致电荷耦合器件性能退化研究CSTPCD
- SiC JBS二极管和SiC MOSFET的空间辐照效应及机理CSTPCDAbstract:基于第六代650 V碳化硅结型肖特基二极管(SiC JBS Diode)和第三代900 V碳化硅场效应晶体管(SiC MOSFET),开展SiC功率器件的单粒子效应、总剂量效应和位移损伤效应研究.20~80 MeV质子单粒子效应实验中,SiC功率器件发生单粒子烧毁(SEB)时伴随着波浪形脉冲电流的产生,辐照后SEB器件的击穿特性完全丧失.SiC功率器件发生SEB时的累积质子注量随偏置电压的增大而减小.利用计算机辅助设计工具(TCAD)…More>>
- 不同偏置下CCD器件γ射线及质子辐射研究